金屬蝕刻-工藝原理
產品設計高靈活性與快速呈現樣件，材料厚度從1.0mm-0.01mm，適用于銅、鎳、鐵、不銹鋼、鈦等，同時讓沖孔工藝無法實現的精度變為可能 。
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01前處理
決定蝕刻精度的先決條件：原材料清洗，去除油污、灰塵顆粒，同時能夠選擇性讓原材料表面進行化學粗化；
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02涂布
將對紫外線敏感的涂層均勻覆蓋至材料兩側，為蝕刻工藝段對原材料進行選擇性保護；
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03曝光
通過CAD數據設計光繪菲林膠片，菲林對基材感光涂層進行選擇性遮蔽；
在紫外線的照射下，未被照射部分涂層分子結構不穩定，能被顯影工藝去除掉；
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04顯影
涂層上未被紫外線照射區域保護層移除 ；
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05蝕刻
通過蝕刻液溶解沒有保護涂層的基材部分，同時通過對設備進行控制，能夠形成半蝕刻區域，這也是沖壓工藝無法實現的，此工藝可以保障99.99%沒有毛刺；
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06脫膜與包裝
脫膜：涂層保護層剝離過程；
蝕刻產品與原材料基材分離，全檢包裝 。
